University of Groningen Charge exchange of multiply charged ions with metal surfaces Folkerts, Lieuwe IMPORTANT NOTE: You are advised to consult the publisher's version (publisher's PDF) if you wish to cite from it. Please check the document version below. Document Version Publisher's PDF, also known as Version of record Publication date: 1992 Link to publication in University of Groningen/UMCG research database Citation for published version (APA): Folkerts, L. (1992). Charge exchange of multiply charged ions with metal surfaces s.n. Copyright Other than for strictly personal use, it is not permitted to download or to forward/distribute the text or part of it without the consent of the author(s) and/or copyright holder(s), unless the work is under an open content license (like Creative Commons). Take-down policy If you believe that this document breaches copyright please contact us providing details, and we will remove access to the work immediately and investigate your claim. Downloaded from the University of Groningen/UMCG research database (Pure): http://www.rug.nl/research/portal. For technical reasons the number of authors shown on this cover page is limited to 10 maximum. Download date: 18-07-2017 Sarnenvatting Ladingsuitwisseling van meervoudiggeladen ionen rnet metaaloppervlakken De eerste vraag die me vaak gesteld wordt als mijn onderzoek ter sprake komt is iets in de trant van: ,,waar is dat nu nuttig voor?" [1]. Meestal antwoord ik dan dat de wisselwerking van meervoudiggeladen ionen met oppervlakken in de eerste plaats een onderwerp van fundamenteel onderzoek is, en dat mijn belangstelling voor dit onderwerp voornamelijk bepaald wordt door de vraag,,Hoe zit dat?" in plaats van ,,wat kun je ermee?". Desondanks lijkt het me zinvol om juist op deze plaats wel te beginnen met het beantwoorden van de wat-kun-1e-ermee_vraag. op onze planeet is de kans erg klein dat je een meervoudiggeladen ion tegenkomt, omdat deze alleen kunnen bestaan onder uitzonderlijke omsá-ndigheden. De dichtsbijzijnde 'natuurlijk' voorkomende meervoudiggeladen ionen b.1riod.r, zich in een stralingsgordel rond de aarde op een hoogte van zo,n vijftienduizend kilometer. In deze pas ondekte stralingsgordel - hij heeft zelfs nog rr.u* [2] bevinden zich !""rr deeltjes a{komstig uit de ruimte tussen de sterren, di"!".,rrog"r, geraakt zijn in het magnetisch veld van de aarde. In tegenstelling tot de t*"" ul la-nger bekende van Allen-gordels bevat deze nieuwe stralingsgorder naast protonen ( eníekondiggeladen waterstof) ook rneervoudiggeladen ionen. Dichter bij huis kunnen meervoudiggeladen ionen alleen bestaan in technische installaties waarin een plasma (een mengsel van ionen en ,vrijer elektronen) kan worden gemaakt. Dit is bijvoorbeeld het geval in fusiereactoren, installaties die gebouwd worden voor onderzoek met als doel de ontwikkeling van gecontroleerde kernfusie als nieuwe, schone energiebron. Fusiereactoren hebben *urrd1rr, en ionen die uit het plasma ontsnappen kunnen botsen met deze wand. Deze ion-wand interacties zotge' voor een deel van de verontreinigingen in het fusieplasma, en deze verontreinigingen zijn een belangrijk obstakel voor het bereiken van de voor fusie benodigde plurÀu_ condities. om de plasma-wand interactie te begrijpen en goed te kunnen beschrijven is meer inzicht nodig in de precieze wisselwerking tussen meervoudiggeladen ionen en I te 124 Samenvatting oppervlakken. Hieraan levert mijn onderzoek een bijdrage. Iets heel anders en meer speculatief is de mogelijke toepassing van meervoudiggeladen ionen in ionen-lithografie van oppervlakken. Met deze techniek kan een oppervlak op kleine schaal worden gernodificeerd door middel van ionenbombardement. Het speciale van de meervoudiggeladen ionen is de invloed van de hoge elektrische lading van de ionen. Indien het lukt om deze lading te deponeren op een klein gebiedje van het oppervlak, leidt dit mogelijk tot een uitbarsting van de oppervlakte atomen. Met een dergelijke 'Coulomb explosie' kan één enkel ion al een aanzienlijke oppervlakte beschadiging aanbrengen. Dit efect kan interessante technische toepassingen hebben in het modificeren van oppervlakken op nanometer schaal. Tot zover het antwoord op de wat-kun-je-ermee-vraag, vanaf nu luidt de vraag weer: ..Hoe zit dat?" . Alle materie om ons heen is opgebouwd uit zeer kleine deeltjes: de atomen. Hoewel hun naam anders doet vermoeden - het woord atoom komt van het Griekse woord 'atomost, hetgeen betekent: ondeelbaar- zijn atomen op hun beurt weer opgebouwd uit een positief geladen kern waaromheen negatief geladen elektronen cirkelen, als planeten om een zon. Het aantal elektronen in een atoom is normaal gesproken precies groot genoeg om de positieve lading van de kern te compenseren, zodat het atoom elektrisch neutraal is. Wanneer een atoom echter een elektron is kwijtgeraakt, heeft het een positieve elektrische lading, en zo'Ír geladen atoom wordt een ion genoemd. Mist een atoom zelfs meer dan één elektron dan heb je dus een rneervoudiggeladen ion. Neem als voorbeeld een koolstofatoom (C). Een normaal neutraal koolstofatoom heeft 6 elektronen. In de experimenten heb ik veel gebruik gemaakt van vijfvoudig geïoniseerde koolstofatomen C5+, ionen met elk nog slechts één elektron. Voor een ander deel van de metingen is gebruik gemaakt van ionen waarvan ook dit laatste elektron is verwijderd (C6+), zogenaamdeÀole ionen. Wat gebeurt er nu als zo'n meervoudiggeladen ion in de buurt van een metaal oppervlak komt? Een stukje metaal bestaat uit zeer veel atomen, en bevat eet'zee' van elektronen. (Deze elektronen zorgen o.a. voor de elektrische geleiding.) Het ligt nu voor de hand om te veronderstellen dat een meervoudiggeladen ion, als het eenmaal in de buurt van het metaal is, een paar van deze elektronen zal invangen om weet neutraal te worden. Dit gebeurt inderdaad, maar niet zomaar lukraak, de invangstprocessen moeten narnelijk voldoen aan bepaalde natuurkundige tregels'. Een belangrijke regel is de wet van behoud van energie. De elektronen in het metaal zijn gebonden met een bepaalde energie, en behoud van energie betekent in dit geval dat een elektron alleen door het ion kan worden ingevangen als de bindingsenergie van het elektron na de invangst gelijk is aan de oorspronkelijke bindingsenergie in het metaal. De bindingsenergieën in een atoom (of ion) kunnen echter slechts bepaalile waarden (nivo's) hebben, tussenliggende waarden zijn niet toegestaan. Het energienivo in het ion, dat overeenkomt met de energie van de metaalelektronen, en waarin de elektronen dus worden ingevangen, is meestal niet het laagste nivo van dat atoom. Door deze elektroneninvansst ontstaat daardoor een heel biizonder t ( ( ( 2 l e p Samenvatting rg van meervoudigLniekkan een opperrombardement. Het e elektrische lading r klein gebiedje van ,lakte atomen. Met enlijke oppervlakte repassingenhebben Samenvatting N' Figuur S.1: Een hol atoom, +\ I nu luidt de vraag de atomen. Hoewel het Griekse woord rt weer opgebouwd ronen cirkelen, als :s groot genoeg om elektrisch neutraal ; het een positieve t. Mist een atoom t ion. :aal koolstofatoom akt van vijfvoudig lektron. Voor een an ook dit laatste rt van een metaal en bevat een'zee' e geleiding.) Het laden ion, als het rnen zal invangen maar lukraak, de ndige 'regels'. :lektronen in het ergie betekent in r als de bindings: bindingsenergie :n echter slechts toegestaan. e metaalelektrohet laagste nivo n heel bijzonder -G-__- deeltje: een hol atoom. Van buiten af gezien lijkt zo'n atoom vrij normaal: er zijn voldoende elektronen ingevangen, het atoom is neutraal. Binnenin blijkt echter dat de meeste elektronen in een te hoog nivo zitten, en de binnennivots zijn nagenoeg leeg: het atoom is hol (zie figuur S.1). Een hol atoom blijft niet lang bestaan, omdat het voor de elektronen energetisch gunstiger is om naar de lager gelegen nivo's te gaan. Dit laatste kan gebeuren via een zogeheten Auger-proces (spreek uit: oozjee). Bij een Auger-proces zijn twee elektronen betrokken, het ene elektron duikt naar een lager gelegen nivo, en de energie die hierbij vrij komt wordt meegegeven aan het tweede elektron (behoud van energie, zie figuur S.2). Dit tweede elektron heeft nu voldoende energie om te ontsnappen uit het atoom en de vrije ruimte in te gaan. In onze experimenten kijken we naar deze ontsnapte elektronen. We meten welke energie ze hebben, in welke richting ze gaan en we proberen te bepalen hoeveel er worden uitgezonden. Uit deze meetgegevens kunnen we niet alleen afleideÍL uelke processen er precies plaatsvinden maar ook waar d.at gebeurt. Eén van de vragen was bijvoorbeeld of het neutralisatieproces van de ionen geheel / JFigunr S.2: Het Auger-proces. A "/ I I iN \ I I I L26 Samenvatting Figuur S.3: Twee achtereenvolgend.e Auger-processen zijn nodig om d.e twee gaten in het binnenste nivo te vullen. bouen het metaaloppervlak plaatsvindt, of gedeeltelijk pas zadat het ion het metaal is binnengedrongen. Gebruikmakend van volledig gestripte (kale) ionen kan worden aangetoond dat het laatste het geval is. Een volledig gestript ion heeft Íu.'eeplaatsen beschikbaar (gaten) in het binnenste elektronennivo. Om dit nivo weer te vullen zijn dus twee achtereenvolgende Augerprocessen nodig (zie figuur S.3). De elektronen die worden uitgezonden door het eerste proces krijgen echter iets meer energie dan de elektronen a{komstig van het tweede proces. In de meting van de uitgezonden elektronen vinden we daarom twee pieken, één piek behorende bij het eerste Auger-proces, en bij een iets lagere energie de piek van het tweede Auger-proces. Figuur S.4 laat deze pieken zien, voor drie verschillende meetsituaties. Het verschil tussen de drie meetsituaties van figuur S.4 is de hoek waaronder de ionen op het oppervlak worden geschoten. Bij een kleine inschiethoek (r/ : 15") dringen C6* -+ Ni A I v=15o u=450 2 c) q É (l) I I KVI A253 tD=75o fln ir ,l .E 200 300 200 300 200 300 400 elektronen energie (eV) ----à Figuur S.4: De twee elekttonenpieken aÍkomstig van de twee achtercenvolgende pÍocessen. Bij gtotete inschiethoek tf; neemt piek 2 sneller af dan piek 1. Auger Samenvatting Twee achtereenvolprocessen zijn nodig :aten in het binnenllen. ret ion het metaal ionen kan \ryorden ) in het binnenste nvolgende Auger:zonden door het ,Íkomstig van het . we daarom twee ets lagere energie n zien, voor drie waaronder de io4t = L5') dringen KVI A253 l0 400 Samenvatting Figuur S.5: Het drie-elekttonAuger-proces. de ionen maar langzaam het oppervlak binnen, maar bij toenemende inschiethoeken (! : et { - 75') wordt de indringsnerheid steeds groter. we zien in figuur s.4 .45' dat als de inschiethoek en dus de indringsnelheid groter wordt de intensiteit van de gemeten pieken kleiner wordt, en het is opvarlend dat piek 2 sneller afneemt dan piek 1. Deze effecten kunnen alleen worden verklaard indien deze elektronen inderdaad aÍkomstig zijn van beneden het oppervrak. Elektronen die beneden het oppervlak worden uitgezonden hebben namerijk maar een beperkte kans om uit het opp..rrluk te ontsnappen en daarna gemeten te worden. Hoe dieper onder het oppervlak, hoe kleiner die ontsnappingskans. we weten dat het tweede Auger-proces altijd no het eerste komt, en omdat het ion in de tussentijd weer iets verder het oppervlak binnendringt, komen de elektronen van proces 2 gemiddeld van grotere di"pi". Dit verklaart waarom de intensiteit van piek 2 sneller afneemt dan piek 1. In het voorgaande is er steeds vanuitgegaan dat de twee gaten in het binnenste nivo van een kaal ion, opgevuld worden door twee achtereenvofende Auger-processen (zie figuur s'3). uit zeer nauwkeurige metingen blijkt echter áut io eeo (zeer) klein aantal gevallen, de beide binnenste gaten in één srap worden opgevuld, en wel met een drie-elektron-Auger-proces. In zotn drie-elektron-Auger-p.o..". drrik.r, twee elek_ tronen tegelijk naar het binnenste nivo en de totale energil die hierbij vrij komt wordt opgenomen door een derde elektron (zie figuur s.5). Het resultaat hi"rrr"n is dat het uitgezonden elektron ongeveer twee keer zoveel energie heeft als een ,normaal, Augerelektron' De bijdrage van dit nieuwe proces aan de totale interactie is echter minilm, slechts minder dan een half promille van de ionen doet het op deze manier. Het is daarom vooral interessant voor theoretici dat dit proces ook optreedt. Met deze samenvatting hoop ik een begrijperijk overzicht g"g.rr"o te hebben van mijn onderzoek. voor meer informatie, , . . lees het hele proefs-ch"rift. Referenties ,olgende Auger 127 [1] Privé communicaties. [2] Govert Schilling, Volkskrant,8 februari 1992.