VCCN Magazine, september 2005, nummer 2

vccn
nieuwsbrief
MAGAZINE
Een uitgave van de VERENIGING CONTAMINATION CONTROL NEDERLAND
jaargang 18 nummer 2 - september 2005
WAT IS NANOTECHNOLOGIE
EN WAT HEBBEN WE ER AAN
REINIGING VAN PROCESAPPARATUUR VOOR
ACTIVE PHARMACEUTICAL INGREDIENTS
Groot. In de kleinste dimensies.
Cleanrooms zijn zo sterk als hun zwakste
schakel. basan levert daarom uitsluitend
producten die voldoen aan de hoogste
kwaliteitseisen. Zo ondersteunt basan al
meer dan twintig jaar high tech ondernemingen in hun cleanroom productieprocessen.
Profiteer van meer dan 20 jaar ervaring,
op maat gesneden, individuele service
concepten en de beste producten van
de meest gerenommeerde fabrikanten.
basan is marktleider in Europa op het
gebied van cleanroomproducten en
-accessoires. Dit dankzij de klantgerichte,
kwaliteitsbewuste bedrijfsfilosofie.
www.basan.com
basan b.v.
Hoek 76
B-2850 Boom
Phone +32 3 8 44 44 00
Fax
+32 3 8 44 66 00
E-Mail [email protected]
basan b.v.
Minervum 7020
NL- 4817 ZL Breda
Phone +31 76 57 22 660
Fax
+31 76 57 22 681
E-Mail [email protected]
basan GmbH
Bachstraße 22
D-65830 Kriftel
Phone +49 61 92 99 86-0
Fax
+49 61 92 99 86-50
E-Mail [email protected]
basan UK Ltd.
Worting Business Park
UK-Basingstoke RG23 8PX
Phone +44 12 56 345 610
Fax
+44 12 56 811 876
E-Mail [email protected]
Colofon
Editorial
Een uitgave van de
Vereniging Contamination
Control Nederland
Wat is nanotechnologie ?
Nanotechnologie gaat over het beheersen van materie tot op de schaal van
atomen en moleculen. Het doel is 3-dimensionale structuren met een bepaalde
functionaliteit te bouwen Zo’n functie kan bijvoorbeeld electrisch, optisch,
magnetisch of mechanisch van aard zijn.
E. van der Drift van het Kavli instituut voor Nanoscience van de TU Delft geeft
vanaf pagina 4 e.v. een mooi overzicht van de stand van zaken met betrekking
tot nanotechnologie: de geschiedenis, de toepassingen, de technieken met hun
beperkingen, de implicaties, maar vooral: wat hebben we eraan?
Redactie
Ing. R.A.H.M. Geilleit
M.A. Reinhold
P.A. van Rij
Reiniging apparatuur
Redactie-adres
Verenigingsbureau VCCN
De Mulderij 12
Postbus 311
3830 AJ Leusden
Telefoon 033 434 57 65
Fax
033 432 15 81
E-mail [email protected]
Dit artikel van de hand van F.J. Bakker van Diosynth B.V. is een bewerking van
zijn voordracht tijdens het VCCN Cleanroom Symposium 26 mei jl .
Het artikel geeft een overzicht van 6 reinigingsmethoden van procesapparatuur
voor API – active pharmaceutical ingredients. Aan de hand van 2 faciliteiten
worden de toepassingen van de reinigingsmethoden overzichtelijk behandeld.
Pagina 9 e.v.
5e Nationale CleanroomDag
Concept & realisatie
Reclamebureau Coljé, Hoevelaken
www.colje.nl
Nieuwe producten en diensten
De inzendingen van informatie en gegevens
voor deze rubriek wordt 4 weken vóór het
verschijnen van de betreffende nieuwsbrief verwacht bij het Verenigingsbureau te Leusden.
Inzenden van deze berichten kan uitsluitend
door de aangesloten bedrijfsleden.
Oktober is voor de 5e keer NCD maand. De commissie Lezingen & Conferenties
is trots op deze - nog altijd goed bezochte - reeks. Dit jaar zal voor het eerst een
parallelprogramma gepresenteerd worden voor de meer ervaren vakgenoot.
De oorspronkelijke lezingenreeks blijft beschikbaar voor alle geïnteresseerden,
maar speciaal voor de nieuwe vakgenoten.
Het parallelprogramma bestaat uit 6 workshops en 2 inloopsessies.
Het uitgebreide programma is te lezen op pagina 13.
Paul van Rij
Redactie VCCN Magazine
Adverteren in het magazine
Het is mogelijk voor bedrijven (dus niet voor
persoonlijke leden) advertenties te plaatsen
in het VCCN magazine. Tarieven die hiervoor
(zwart/wit) gelden zijn:
1/1 pagina
1/2 pagina
1/4 pagina
1x
€ 475,€ 275,€ 175,-
3x
€ 1275,€ 745,€ 425,-
Bovengenoemde prijzen gelden voor bedrijfsleden van de VCCN. Bedrijven die geen lid
zijn betalen bovengenoemde bedragen +
25%. Extra kosten per steunkleur € 165,- per
plaatsing. Extra kosten full-color € 400,- per
plaatsing. De extra kosten voor het plaatsen
van een advertentie op de achterpagina en
op de binnenkant cover bedragen + 10%.
Het is ook mogelijk om op onze website te
adverteren.
Inhoud
Editorial
Wat is Nanotechnologie?
Reiniging procesapparatuur
Vernieuwde VCCN website
3
4
9
10
5e Nationale Cleanroomdag
Productnieuws
Nieuwe leden
Agenda
vccn nieuwsbrief
13
15
15
15
3
WAT IS NANOTECHNOLOGIE ?
Wat hebben we aan Nanotechnologie ?
E. van der Drift, Kavli Instituut voor Nanoscience, TU Delft
Nanotechnologie gaat over het beheersen van materie tot op de schaal van atomen en moleculen. Het doel is 3-dimensionale
structuren met een bepaalde functionaliteit te bouwen. Zo’n functie kan bijvoorbeeld electrisch, optisch, magnetisch of mechanisch van aard zijn. Wellicht het meest aanschouwelijke product van nanotechnologie zijn de huidige computers. De voortschrijdende miniaturisatie is hier gevorderd tot kleinste details van ca. 100 nm. Microelectronica heeft zich zo feitelijk ontwikkeld
tot nano-electronica.
Voor de opbouw van functionele nanostructuren bestaan 2
benaderingen: bottom-up en top-down. Voorbeelden van resultaten
van beide benaderingen staan in figuur 1. In de bottom-up aanpak
wordt de structuur opgebouwd met vooraf gefabriceerde elementen.
In het gegeven voorbeeld (figuur 1a) is een vooraf gefabriceerde InP
nanodraad geassembleerd in een electrodestructuur en kan zo
worden gebruikt als een mechanische sensor. Een belangrijke variant
in bottom-up is de z.g. self-assembly waarbij op basis van
natuurlijke (moleculaire) krachten de nanostructuur a.h.w. vanzelf
wordt opgebouwd. In de top-down benadering wordt m.b.v. dunnefilm
technieken en lithografie materiaal laag-voor-laag gestructureerd,
feitelijk zoals ook macroscopisch een bouwproces plaatsvindt. Het
getoonde voorbeeld (Fig 1b) is een bouwsteen voor een nieuw soort
electronica gebaseerd op supergeleiding door atomair dikke barrières.
Nanotechnologie is een multidisciplinair vakgebied met als voornaamste componenten fysica, chemie en materiaalkunde, met
daaraan toegevoegd een flinke dosis instrumentatie.
4
vccn nieuwsbrief
Figuur 1: Voorbeeld van bottom-up nanofabricage. Het bottom-up device is een
nanoresonator van InP geassembleerd in een electrode-structuur.
Een prachtig voorbeeld van quantumgedrag
(uit de Delftse school) staat in figuur 2. Het
laat zien dat in een nanoconstrictie de electrische geleiding in vaste stapjes verandert
i.p.v. continue. Later heeft dit werk geleid tot
nieuwe concepten van transistoren waardoor
ook weer nieuwe toepassingen mogelijk
worden.
Figuur 1: Voorbeeld van top-down nanofabricage.
Het Top-down device is een bouwsteen voor een
nieuw computer algorithme genaamd quantum
computation.
Geschiedenis
De eerste aktiviteiten in nanofabricage
dateren van ca. 1970. Men constateerde dat
de fijngefocusseerde electronenbundel in
een electronenmicroscoop een spoor van
gecarboniseerd materiaal achterliet op een
blootgesteld oppervlak. Nanolithografie was
geboren. Door het traject van de bundel te
programmeren konden patronen worden
geschreven die vervolgens in onderliggende
materiaallagen konden worden overgezet.
Al snel werden allerlei (vooral polymere)
materialen ontwikkeld waarmee ook patronen
konden worden gerealiseerd, zowel in een
positieve als negatieve toon (in analogie met
de fotografie). Tegelijkertijd werd ook een
scala aan dunnefilm technieken ontwikkeld
voor het nauwkeurig groeien en structureren
(etsen) van allerlei materialen.
Twee drijvende krachten hebben in die periode
bij de verdere ontwikkeling van nanotechnologie een hoofdrol gespeeld:
• fundamentele fyscia gericht op beter inzicht
in het transport van electronen in nanostructuren waarmee voorspeld quantumgedrag experimenteel zou kunnen worden
onderzocht.
• microelectronica, gericht op voortdurende
miniaturisering en verdichting van geïntegreerde schakelingen (IC’s). t.b.v. steeds
complexere en snellere dataverwerking.
Figuur 2: Electrische geleiding in een nanoconstrictie.
Door het golfkarakter van electronen varieert de geleiding in vaste stapjes. Bron: van Wees, TU Delft, 1988.
De op optische lithografie gebaseerde fabricage
van microelectronica leek rond 1980-1985
een natuurlijke barrière tegemoet te gaan
toen de kleinste details in de buurt kwamen
van de golflengte van het gebruikte UV licht.
Veel research was toen gericht op het vinden
van alternatieven, zoals b.v. de bundeltechnieken in de nanotechnologie. Die ‘crisis’ is in
de decennia daarna voorlopig gekeerd door
het alsmaar verfijnen van het optische proces.
De resolutie bedraagt nu ca. 1/4 golflengte
waardoor met een golflengte van 156 nm
details van ca. 40 nm nog optisch kunnen
worden vervaardigd. Over 5 tot 10 jaar zullen
volgende fundamentele barrières opdoemen,
maar daarover later meer.
gebogen golfgeleider met aan- en afvoer golfgeleiders. Een fotonisch kristal voor 1550 nm
golflengte (belangrijk in de telecom) bestaat
uit een regelmatig array van paaltjes of gaatjes,
met een diameter van 200-250 nm, op
een onderlinge afstand van 400-500 nm
(enigszins afhankelijk van het materiaalsysteem). Zo’n array is ondoordringbaar
voor licht over een zeker golflengtegebied.
Omgekeerd, holtes of doorgangen in zo’n
array, verschaffen selectief toegang voor het
licht. Het vakgebied van de Nanofotonica is
sterk in opkomst en zal in allerlei vormen
(lichtbronnen, lichtgeleiding) van groot
belang worden voor de telecommunicatie.
Een hot topic is de integratie van electrische
en optische functies in één enkel materiaalsysteem (zoals b.v. silicium).
Toepassingen
Stond de toegepaste nanotechnologie jarenlang in het teken van met name electronische
progressie (zie vorige paragraaf), dan is
daar nu toch flink verandering in aan het
komen. Door de steeds fijnere technieken van
lithografie, materiaalgroei en -patronering, en
inspectie is de materiaalbeheersing enorm
gevorderd. Controle in laterale afmetingen zit
in het sub-10 nanometer gebied, voor
laagdiktes geldt zelfs controle tot het niveau
van een monolaag. Zuiverheid van materialen
gaat tot ppb schaal en verder, en monokristallijn gedrag nadert de totale perfectie. Het
opent een veelheid aan mogelijkheden. Het
is mede om die reden dat hedentendage de
nanotechnologie zo sterk in de belangstelling
staat. Enkele voorbeelden van nanodevices:
Mechanisch
Het bottom-up resultaat in figuur 1a is het
prototype van een nanoresonator. Het draadje
kan in trilling gebracht worden en de eigen
frequentie kan worden gedetecteerd. Wanneer
de massa van het draadje verandert, b.v.
door de adsorptie van moleculen, verandert
de eigenfrequentie. De gevoeligheid gaat tot
beneden de attogram (10-18 gr.) en benadert
de moleculaire schaal. De nanoresonator kan
ook gebruikt worden als frequentiestandaard
(ter vervanging van het bekende kwartskristal) of als frequentiefilter, maar dan over
een veel breder frequentiegebied. Met de
beschikbare nanofabricagetechnieken zijn eigen
frequenties tot in het GHz-gebied haalbaar.
Optisch
Bijgaande opname (figuur 3) toont een z.g.
fotonisch kristal met daarin een scherp
Figuur 3: Fotonisch kristal met daarin een
scherp gebogen golfgeleider voor licht met een
golflengte van 1550 nm. Bron: T. Zijlstra et al,
TU Delft 1999.
Electronisch
Het top-down resultaat in figuur 1b is een
nieuw electronisch concept gebaseerd op
supergeleiding door atomair dikke barrières.
Op de lange termijn biedt dit concept
mogelijkheden voor veel krachtiger computer
algorithmes voor dataprocessing. Een van
de belangrijke beperkingen is nu nog dat de
werking alleen bij zeer lage temperaturen
vlak boven het absolute nulpunt mogelijk is.
Instrumentatie
In figuur 4 wordt het voorbeeld van een
nanowrijvingsmeter getoond. Het principe
(links) toont een tip in een aan armen
opgehangen blokje met schuine facetten.
Rechts de vervaardigde tiphouder met
geassembleerde tip. Bij aftasten van een
oppervlak zal de wrijvingskracht het blokje
uit de evenwichtsstand duwen, afhankelijk
van de veerconstante van de armpjes. Op de
schuine vlakken staan laserinterferometers
gericht waarmee de verplaatsing in alle
richtingen kan worden gemeten.
De gezamenlijke meetgegevens (verplaatsingen, veerconstantes) geven de wrijving
op nanoschaal. Zulk inzicht is b.v. van
belang bij de harddisk technologie.
»»
vccn nieuwsbrief
5
6
vccn nieuwsbrief
Naast de genoemde voorbeelden mogen
niet onvermeld blijven:
• MRAM, een magnetisch concept voor
dataopslag met ongekend hoge dichtheid.
• Nanofluidics, technologie gericht op het
manipuleren van kleine hoeveelheden
vloeistof voor dosimetrische beheersing
tot op het niveau van één molecuul.
• Lab-on-a chip, een meer algemene chemischanalytische aanpak met microchips met
een array van specifieke functies voor
diagnose, reactie-onderzoek etc. etc.
Meer algemeen, de moleculaire biofysica is
een belangwekkende tak van wetenschap
waarzeer uitgebreid met nanotechnologie en
nano-instrumentatie wordt gewerkt om
achtergronden van moleculaire dynamiek en
processen, b.v. in cellen, of in moleculen (DNA,
RNA) tot op het niveau van één-molecuul te
kunnen onderzoeken. Het belang van dit
soort onderzoek voor de medische vooruitgang
spreekt uiteraard voor zich.
Figuur 4: Principe (links en realisatie (rechts) van
een nano-wrijvingsmeter. Bron T. Zijlstra et al,
TU Delft, 2000
Technieken,
technologieën en hun beperkingen
De voortgang in de nanotechnologie is voor
een belangrijk deel te danken aan de enorme
progressie in de benodigde technieken.
In de bundellithografie is de grens van 10 nm
al gepasseerd. Een fundamenteel probleem
om tot nog kleinere afmetingen te komen
ligt in de secundaire belichting in het
materiaal opgewekt door de primaire bundel.
De secundaire belichting is weliswaar
energetisch minder sterk maar helaas
minder plaatsgebonden te controleren (of te
onderdrukken). Dit gaat ten koste van de
resolutie. Het zal de ontwikkeling van
nieuwe lakmaterialen vereisen die minder
gevoelig zijn voor deze parasitaire effecten.
In de optische aanpak is 40 nm zo ongeveer
de huidige ondergrens. Verdere ontwikkeling
ligt in het verschiet wanneer bijvoorbeeld de
z.g. Extreme UV lithografie (EUV) bij 13.7 nm
golflengte gestalte krijgt. Voor de IC industrie
lijkt dit een van de meest reëele mogelijkheden
om miniaturisering op productieschaal tot
ca 20 nm door te voeren. Ook hier zullen
evenwel de secundaire effecten gaan opspelen
en verdere voortgang kunnen beperken. Een
ander veelbelovende productiemethode
gebaseerd op duizenden nanobundels parallel
aan elkaar wordt momenteel intensief door
het Delftse bedrijf Mapper geëxploreerd.
Hoge resolutie lithografie in combinatie met
electrochemische groeitechnieken levert
laterale controle tot een paar nm maar de
toepassingen lijken (voorlopig) beperkt. De
techniek van dual beam (combinatie van een
electronen en een ionenbundel) is belangwekkend voor de snelle ontwikkeling van
prototype devices, om te zien of principes
werkbaar zijn. Met de ionenbundel wordt
maskerloze nanostructurering gedaan, met
de electronenbundel kan meteen worden
geïnspecteerd. Deze techniek levert overigens
geen verdere bijdrage aan verbetering van
de resolutie. Last but not least lijken er ook
fundamentele beperkingen aan de als maar
kleinere nano-electronica zelf te zitten.
De schaalverkleining zal mogelijk een keer
moeten stoppen of nieuwe concepten
zouden moeten worden ontwikkeld.
Met de komst van de scanning tunneling
microscoop (STM) midden jaren 80 is een
scala aan probe-technieken beschikbaar
gekomen met (inspectie)resolutie tot beneden
één nanometer. Alle probe- en bundeltechnieken leveren weliswaar zeer hoge resolutie
maar ze zijn inherent langzaam door het
seriële karakter ervan. Multiprobe concepten
kunnen mogelijk in het gebrek aan snelheid
voorzien. IBM heeft met het z.g. Milipede
concept een data-opslag methode ontwikkeld
waarbij duidenden nanoprobes tegelijk voor
de snelle data-verwerking en data-uitlezing
kunnen zorgdragen.
Met de voortschrijdende miniaturisatie
komen ook beperking in materiaalkundige
zin in beeld. Een afmeting van b.v. 10 nm
impliceert slechts zo’n 50 atomen op een rij.
Op deze schaal kan de grootte van moleculen
in een te belichten lak al een fundamentele
beperking geven voor verdere verkleining.
De eerdergenoemde secundaire effecten
zijn over kortere afstanden steeds minder
goed te onderdrukken. Een ander verschijnsel
is dat met steeds kleinere afmetingen
de dosis principieel omhoog zal moeten
om een voldoende aantal stralingsquanta
(electronen, fotonen) te houden zodat de
natuurlijke onzekerheid N±N1/2 (de z.g.
shot noise) in verhouding voldoende klein
blijft. Het dwingt tot ontwikkeling van
nieuwe materialen. Materiaalschade en
materiaal-stabilisatie zijn andere onderwerpen
die bij kleinere afmetingen steeds belangwekkender worden. Immers de verhouding
oppervlakte: bulk wordt steeds groter, waardoor invloeden van de omgeving op het
oppervlak (zoals oxidatie door de zuurstof
uit de lucht) steeds belangrijker worden.
Veel structureringstechnieken zijn gebaseerd
op plasma’s. De energetische fluxen uit een
gasontlading kunnen gemakkelijk materiaalschade veroorzaken met negatieve gevolgen
voor de optische of electrische eigenschappen.
Structureringsmethoden moeten verder
worden geoptimaliseerd om dit soort
schade uit te sluiten onder behoud van de
laterale controle.
Verdere implicaties en perspectieven
Het moge duidelijk zijn dat de nanotechnologie zich veelal nog in de research &
development (R&D) fase bevindt. Prototype
ontwikkeling voor het testen van concepten
is nog de hoofdzaak. Eisen aan werkomgeving
en te gebruiken chemicaliën en gassen
wijken nog niet echt af van wat nu voor ICprocessing gebruikelijk is. Voor de beheersing
van materialen en processen tot nanoschaal
zullen uit oogpunt van productie eerst nog
veel onzekerheden moeten worden weggenomen. Zodra producten voor de markt
beschikbaar komen kan dat beeld van
gematigde condities snel veranderen. De
steeds stringentere (en daardoor zeer kostbare) eisen aan de cleanroomcondities, de
reproduceerbaarheid van fabricageprocessen
en de zuiverheid van materialen en chemicaliën voor de meest geavanceerde ICproducties zijn illustratief voor wat ons te
wachten staat. Verder is de z.g. time-to-market
een niet te onderschatten factor. Ondanks
de veelbelovende verhalen over ‘nano’ is
een rijpingstijd van 10-15 jaar voor nieuwe
concepten vaak realistisch. De research
inspanningen van de jaren negentig bepalen
de producten (sensoren, electronica, datacommunicatie) van nu. Zo’n ritme zal ook
voor de toekomst gelden. M.b.t. de electronica
zelf staat ons op termijn van ca. 10 jaar een
interessante tijd te wachten aangezien
fundamentele grenzen in zowel technieken
als device concepten opdoemen. Circuits op
basis van z.g. nanokoolstofbuisjes (volgens
bottom-up concept) worden gezien als
mogelijke opvolgers. Het is nog hoogst
onduidelijk of de vereiste extreme materiaalbeheersing van deze bouwstenen überhaupt
mogelijk wordt. Tot slot, nanotechnologie is
zo nieuw dat nog nauwelijks bij de maatschappelijke aspecten ervan is stilgestaan.
Een tijdige (dus nu beginnen!) discussie
over ethische implicaties moet zorgen voor
realisme en waakzaamheid.
vccn nieuwsbrief
7
INTERMICON B.V.
Roer 24
3068 LE Rotterdam
Tel.
010 - 458 28 33
Fax
010 - 421 80 80
E-mail: [email protected]
SPECIALISTEN IN LUCHTTECHNISCHE METINGEN
• het verrichten van kwalificatiemetingen in geklassifeerde ruimten
- integriteitstesten HEPA-filters
- deeltjesklasse
- statische drukverschillen
- hersteltijden
- temperatuur en relatieve/absolute vochtigheid
- geluidsniveau
- verlichtingsintensiviteit
- lekverliezen
- microbiologische analyses
• het kwalificeren van operatieruimten
• het testen van zuurkasten
• het valideren van laminair flowkasten
• het luchtzijdig inregelen van gebouwen
• HEPA-filteronderhoud
Wie lucht geeft aan zijn wensen krijgt door INTERMICON snel en overzichtelijk de feiten aangereikt.
8 vccn nieuwsbrief
REINIGING APPARATUUR
Reiniging van procesapparatuur voor active pharmaceutical ingredients
In dit artikel wordt het reinigen van proces apparatuur in de farmaceutische industrie toegelicht. Het is een bewerking van de voordracht, die
gehouden is op het Jaarlijkse VCCN Symposium van 26 mei 2005 te Nijmegen.
Voor API productie wordt een grote variëteit aan apparatuur gebruikt (API = een actieve Pharmaceutische Ingrediënt). Productie gebeurt zowel
via moderne biotechnologie als via klassieke biochemische zuivering of chemische synthese. In deze lezing wordt ingegaan op het schoonmaken
in de chemische productie-omgeving. De gebruikte apparatuur is veelal van roestvaststaal, soms geëmailleerd.
Reinigingsmethoden
De karakteristieken van de reinigingsmethoden
worden toegelicht, mede aan de hand van de
vier elementen uit de cirkel van Sinner:
mechanische actie, chemie van het reinigingsmiddel, temperatuur en tijd. De volgende
reinigingsmethoden worden behandeld:
2a stofzuigen
Stofzuigen is zeer geschikt voor het handmatig
verwijderen van niet-gebonden restproduct,
als voorreiniging na het werken met droge
vaste producten.
2b poetsen
Poetsen met een vochtige tissue wordt veelal
toegepast voor het schoonmaken van werkbladen en wanden. Met de mechanische
kracht worden losse productresiduen snel
verwijderd. Om te voldoen aan zeer strenge
eisen, zoals gesteld voor de buitenzijde van
verpakkingen, is napoetsen van het visueel
schone oppervlak met een tissue met een goed
oplosmiddel de meest aangewezen methode.
2c wasmachine
In een wasmachine zijn condities mogelijk
die overeenkomen met die van cleaning in
place bij gebruik van sproeibollen: hoge
temperatuur, beperkte mechanische actie,
mogelijkheid voor toepassing van een sterk
reinigingsmiddel. Belangrijk verschil ligt in
de mate van containment. Het laden van een
wasmachine vindt niet gesloten plaats.
2d ultrasoon
Ultrasoon reinigen neemt een bijzondere
plaats in. De mechanische actie wordt gecreëerd door dampimplosies direct op de
grens van vloeistof en productlaag of RVS
wand. Die ontstaan bij de trillingen van
vloeistof tegen een hard oppervlak. Gebruik
van een sterk reinigingsmiddel is mogelijk.
De vloeistoftemperatuur mag hoog zijn, maar
niet te dicht bij het kookpunt liggen, want dan
heeft de implosie weinig impact. In de praktijk
is in water de ultrasone werking effectief tot ca
80∞C. Transport van het losgemaakte vuil naar
de bulk van de vloeistof wordt sterk bevorderd
door het (langzaam) bewegen van de artikelen.
2e cleaning in Place
Bij cleaning in place (CIP) wordt reinigingsvloeistof in een installatie rondgepompt en
via nozzles of sproeibollen verspreid over het
te reinigen oppervlak. De mechanische werking
wordt bepaald door de stroomsnelheid langs
het oppervlak. Bepalend hiervoor zijn de impact van de sproeiers of de stroomsnelheid in
de leidingen. Het gelijkmatig instellen van de
vloeistofimpact over alle te reinigen plaatsen
blijkt in de praktijk lastig. Voor een eenvoudig
ontwerp kiest men doorgaans voor volledige
benatting door de reinigingsvloeistof met een
lage impact. De reiniging is onder deze condities sterk afhankelijk van de ‘chemie’, de
opname van vuil door het reinigingsmiddel.
Die wordt indien nodig versterkt door een hoge
temperatuur. Na opname van het vuil moet
de vloeistof zo volledig mogelijk gedraind
worden. Deze voorwaarde is in de praktijk
niet altijd gemakkelijk te realiseren. Een goed
artikel over ontwerp van CIP installaties, in
het bijzonder de keus voor vloeistofdebieten,
is: ‘Practical CIP System Design’ van D. Greene
in Pharmaceutical En-gineering van maart/
april 2003. Voor CIP wordt vaak gebruik
gemaakt van externe CIP skids. Bij Diosynth
is goede ervaring met gebruik van het eigen
procesvolume bij CIP in recirculatie.
2f cleaning out of place
Bij cleaning out of place (COP) wordt de
apparatuur verplaatst naar een reinigingsstation en gereinigd analoog aan CIP. Belangrijk bij API manufacturing is naast het voorkomen van verontreinigingen in het product
ook het beperken van emissie en daarmee
operator exposure. Hiervoor is een gesloten
werkwijze gunstig. Vooral om deze reden
heeft cleaning in place van de genoemde
reinigingsmethoden de voorkeur; zie Fig. 1
met betrekking tot de vóór- en nadelen van
een open en een gesloten systeem.
Open vs Gesloten
• Je kunt erbij
• Je ziet of het schoon is
• Lage temperatuur
• Milde chemie
• Emissie
• Mechanische werking door proces
• Agressief reinigingsmiddel
mogelijk
• Hoge temperatuur
• Containment
Figuur 1: Open en Gesloten systeem
Toepassing reinigingsmethoden
Aan de hand van twee faciliteiten worden de
mogelijkheden en resultaten van CIP en de
andere reinigingsmethoden toegelicht. Het
betreft:
• 3a een chemische multi product plant uit
1996
• 3b een powder processing faciliteit; die nog
in aanbouw is
3a Chemische Productieafdeling
In de chemische productieafdeling zijn
procesapparatuur en leidingsystemen geheel
ontworpen voor CIP. Het betreft reactoren,
tanks, filterdrogers van roestvaststaal of
emaille; zie foto 1.
Foto 1: Chemische productieafdeling
Elk apparaat is via RVS leidingen verbonden
aan koppelpanelen. Op de panelen kunnen
verbindingen gemaakt worden. Voor reiniging
vormen het apparaat en de leidingen samen
een unit. Voor CIP kan een unit, eventueel
gecombineerd met een of meer transportleidingen tussen de panelen, gereinigd worden
door inschakelen van een CIP pomp behorend
bij een koppelpaneel. Omdat de te reinigen
apparatuur zelf voldoende hold up en verwarmingscapaciteit heeft, hoeft geen aparte
CIP skid gebruikt te worden. Keuze voor het
reinigingsmiddel is een organisch oplosmiddel,
waarin het procesresidu goed oplost. Er wordt
gekozen voor organische oplosmiddelen,
omdat de apparatuur is ontworpen voor
procesvoering met oplosmiddelen. De vloeistof wordt verwarmd via de reactor of droger.
Incidenteel worden ook water en detergenten
toegepast, ook bij niet water-oplosbare
producten.
»»
vccn nieuwsbrief
9
VCCN WEBSITE
Bezoek onze geheel vernieuwde website: www.vccn.nl
• Registratie Nationale
CleanroomDag
• Registratie CGC cursussen
• Bestellen publicaties
en richtlijnen
• VCCN Magazine digitaal
ROMEX
www.cleanroom.nl
Bedrijfsprocessen in de
elektronica industrie zijn
uiterst gevoelig. Wij spelen
daarom in op de groeiende
behoefte van het schoon
en ESD veilig produceren,
assembleren, repareren en
installeren van elektronica
door het inrichten van
cleanrooms en het leveren
van cleanroomproducten.
Denkt u hierbij aan kleding,
ionisatie, verpakkingen,
tafels, disposabless, handschoenen, RVS stellingen,
trolleys, kleefmatten, foliematten, reinigingsdoeken,
papier, wattenstaafjes en
mondmaskers.
Wilt u verder praten?
Romex B.V.
Remmerden 5, 3911 TZ
Rhenen,Tel 0317 619116.
Werken in een schone omgeving?
Stabiliserende partner voor cleanroom services nodig?
Surf eens langs op www.cleanroom.nl
10
vccn nieuwsbrief
Hoewel oplosmiddel aanzienlijk duurder is
dan een detergentoplossing, is reinigen met
oplosmiddel in dit geval goedkoper. Er zijn
doorgaand slechts 3 cycli nodig voor het gewenste resultaat, waarvan 2 dedicated voor
het product. De derde is standaard aceton.
Hiertegenover staan 5 spoelingen met detergenten en purified water en vervolgens de
standaardreiniging met aceton. Vooral het verschil in tijdsduur bepaalt het kostenverschil.
4. Recirculeren met zuur reinigingsmiddel
5. Recirculeren met purified water (PW)
6. Once through spoelen met PW
7. Drogen
De geleidbaarheid van het spoelwater wordt
in line gemeten. Tussen de stappen in wordt
de installatie gedraind en worden de leidingen
nageblazen met perslucht.
Foto 2: Voorbeeld uit de Powder Processing Plant
Reiniging van RVS onderdelen
Reinigingscriteria
In de chemische productieafdeling gelden
verscheidene reinigingscriteria. De reiniging
met dedicated oplosmiddel moet leiden tot
visueel schone apparatuur in droge toestand.
De operator inspecteert de apparatuur hierbij
via kijkglazen. Het laatste spoelsel moet ook
helder en kleurloos zijn. Vervolgens volgt een
standaardreiniging met aceton (universeel
oplosmiddel). Zolang het reinigingsproces niet
gevalideerd is, wordt het spoelsel 100%
gecontroleerd op productrest. Deze productrest moet liggen op het normale niveau van
het apparaat, veelal rond 1 gram restproduct.
Ook wordt nagegaan, of er per therapeutische
dosis van het volgende product (TDDp) niet
meer dan 1/1000 therapeutische dosis van het
laatste product (TDDc) achtergebleven is, met
een bovengrens van 100 ppm. Dit criterium heet
de MACO (Maximum Allowed Cross Over).
Voor een proces met final API’s wordt alle
apparatuur tezamen gecontroleerd op inert stof.
Een 0,5 liter monster van het spoelsel wordt in
het licht visueel en middels troebelheidsmeting
beoordeeld op stof en gefiltreerd over een fijn
testfilter van 20 mm diameter. Het filtertje
wordt op kleur beoordeeld. In figuur 2 wordt een
overzicht gegeven van de reinigingscriteria.
Resultaten
De reiniging in de chemische afdeling resulteert in relatief korte omsteltijden van het ene
product naar het volgende, doorgaans binnen
een dienst van 8 uur voor reactoren. Filterdrogers vragen meer spoelingen en een handmatige nareiniging van pakkingen en vergen
tot twee diensten reinigingstijd. Wanneer final
API’s in stofvrij geteste apparatuur worden gezuiverd, blijken ze kiemarm (veelal <10 KVE/g).
Reiniginscriteria
• Visueel schoon
• Laatste spoelsel helder en kleurloos
• Productrest op standaardniveau (g/unit), check op
MACO criterium (1/1000 TDDG) / TDDp en < 100 ppm
• Stofvrij (final API)
• Geleidbaarheid laatste waterspoelsel
voldoet aan criterium
Figuur 2: Samenvatting reinigingscriteria
3b Powder Processing Plant
In de API powder processing plant worden
de final API’s uit de chemische synthese
nabehandeld door middel van zeven, malen
en/of microniseren; zie Foto 2.
Het betreft alle vaste stoffen. De deeltjesgrootte wordt naar wens van de afnemer
verkleind, de charges worden gehomogeniseerd, bemonsterd voor vrijgifte en in drums
met plastic zakken afgevuld op gewicht. De
apparatuur voor powder processing is
beduidend minder goed aan te passen aan
CIP reiniging dan de chemische. Specifieke
onderdelen als het zeefgaas zelf of de as en
rotor van een molen zijn niet CIPbaar.
Containment is voor deze plant, waar met
hoogactieve vaste stoffen wordt gewerkt, van
het grootste belang. Twee procesunits zijn
gebouwd in isolators. De reinigingscriteria
zijn in principe dezelfde als voor de chemische
plant. Vanwege de grotere diversiteit aan
producten en de soms zeer beperkte chargegrootte is de absolute hoeveelheid restproduct
per unit kleiner dan in de chemische productie.
Reiniging na een zeer hoog actief product
(TDDc = 0,01 mg) voor een charge van 10 kg
product met therapeutische dosis TDDp = 1 mg
geeft bijvoorbeeld een eis van ((1/1000 x
0,01 mg)/ 1 mg) x 106 ppm = 10 ppm van 10 kg
= 100 mg. Voor een product met TDDp = 10 mg,
zou een criterium van 10 mg noodzakelijk zijn.
Reiniging
De reiniging van de API powder processing
plant is voor zover mogelijk gesloten, door
middel van CIP. 100% van het productcontactoppervlak is visueel inspecteerbaar
na eenvoudige demontage van de apparatuur.
Veel onderdelen zijn alleen na handmatig uit
te voeren demontage reinigbaar. Eerste keuze
voor de reiniging is CIP.
Restproductwinning
Aan het eind van het productieproces wordt
eerst door stofzuigen zoveel mogelijk restproduct verwijderd en eventueel teruggewonnen.
CIP
Vanwege de vele demontagewerkzaamheden
is de bediening niet automatisch en receptgestuurd zoals bij de chemische productie,
maar handmatig. Reinigingsmiddel is water
met detergent, bij een temperatuur van 55 tot
70∞C, afhankelijk van de interactie met de
operator. CIP cycli zijn:
1. Voorspoelen met warm water
2. Recirculeren met alkalisch reinigingsmiddel
bij 55 < 70 ∞C
3. Tussenspoeling
Daar waar onderdelen moeten worden gedemonteerd en elders gereinigd, gebeurt dit na
volledig benatten in de voorspoeling. De
onderdelen worden nat in plastic verpakt en
gesloten vervoerd. Reden hiervoor is voorkomen van productstof in de werkomgeving.
De RVS onderdelen worden in een ultrasoonstraat gereinigd; zie Foto 3.
Foto 3: Reinigingsstraat
De ultrasoon reinigingsstappen en -middelen
komen overeen met die van CIP:
1. Voorspoelen en openen van de verpakking
onder water
2. Alkalisch ultrasoon reinigen bij 70 ∞C
3. Tussenspoelen met douchekop
4. Zuur spoelen door dompelen
5. Dompelen en spoelen met purified water
6. Dompelen in PW met geleidbaarheidsmeting, lift out
7. Drogen met gefiltreerde lucht.
Reiniging van filterdoeken
De gedemonteerde filterdoeken worden in
een wasmachine gereinigd. De doeken worden
dedicated gebruikt voor één product.
Controles
Alle apparatuur en onderdelen worden na
reiniging altijd 100% visueel geïnspecteerd in
droge toestand. Bemonstering voor reinheidscontrole vindt plaats door dompelen van
onderdelen in oplosmiddel of door swabben
van delen van de installatie. Totdat de reiniging van een proces is gevalideerd, wordt
100% gecontroleerd met analyses.
Resultaten
Resultaten zijn nog niet bekend: de plant moet
nog worden opgestart. Fases zijn:
• Commissioning • Kwalificatie van de apparatuur • Reinigingsvalidatie • Procesvalidatie.
F.J. Bakker - Diosynth BV, Oss
vccn nieuwsbrief
11
12
vccn nieuwsbrief
5dede NATIONALE CLEANROOMDAG
Donderdag 27 oktober 2005, !Spant, Bussum
Wat is het doel van de Nationale CleanroomDag?
Informatiemarkt
Het doel van deze dag is om zowel degenen die instromen als de
(meer) ervaren vakgenoten/ cleanroom specialisten een programma
aan te bieden waarmee zij kennis kunnen opdoen of kennis kunnen
uitbreiden. Ook kunnen deelnemers via de informatiemarkt op
informele wijze kennis maken met (medewerkers van) bedrijven en
dienstverleners die werkzaam zijn in de cleanroom branche.
Standhouders op de informatiemarkt hebben de mogelijkheid in te
schrijven voor de 2 inloopsessies. Bij deze sessies kunt u in maximaal
15 minuten uw nieuwe product/systeem e.d. aan de deelnemers
presenteren. Het aantal (korte) presentaties is beperkt en ‘vol is vol’.
Wij adviseren u dan ook om zo spoedig mogelijk het aanmeldingsformulier te faxen naar het VCCN Verenigingsbureau en aan te geven
dat u van deze (nieuwe) mogelijkheid gebruik wenst te maken.
Aanmeldingen worden op volgorde van binnenkomst verwerkt.
Degene die instroomt in het vakgebied
U zult na deze dag een goede basiskennis hebben van de werking en
het gebruik van een cleanroom. In een zevental lezingen worden de
volgende onderwerpen behandeld: risico-analyse/contamination
control, ontwerp en specificatie van de cleanroom, normen, bouw en
installatie, validatie en oplevering, kleding en discipline en onderhoud en gedrag.
De (meer) ervaren vakgenoot/cleanroom specialist
U heeft parallel aan het lezingenprogramma keuze uit 2 nieuwe
programmaonderdelen:
1) U kunt participeren in workshops en discussiëren met specialisten
uit het vakgebied.
2) Bent u geïnteresseerd in nieuwe producten/systemen? Loop dan
binnen bij één van de twee inloopsessies. Hier brengen bedrijven
(standhouders) het laatste nieuws over hun producten.
Totaal zijn er 8 sessies: 6 workshops en 2 inloopsessies. U kunt aan
maximaal 4 sessies meedoen. Zie het bijgevoegde programmaschema.
Op het aanmeldingsformulier moet u duidelijk aangegeven aan
welke sessies u wenst deel te nemen. Het aantal deelnemers voor de
workshops is beperkt tot 25 personen en ‘vol is vol’. Aanmeldingen
worden op volgorde van binnenkomst verwerkt.
Voor wie?
De Nationale Cleanroomdag is voor een ieder werkzaam in het
cleanroom vakgebied binnen de volgende werkvelden:
• Electronica industrie
• Gezondheidszorg (OK)
• Semiconductors industrie
• Leveranciers
• Farmaceutische industrie
• Installateurs
• Levensmiddelen industrie
• Schoonmaakbedrijven
Waar vindt de Nationale Cleanroomdag plaats?
Congrescentrum ‘t Spant, Dr. A Kuyperlaan 3, 1402 SB in Bussum
Wat kost deelname?
VCCN Leden en bedrijfsleden € 80,Gepensioneerde VCCN-leden € 40,-
Niet leden
Studenten
Wat kost een stand op de informatiemarkt?
VCCN Bedrijfsleden
€ 475,-
Niet leden
S. van Ewijk, tel. 033-4345765, e-mail: [email protected], www.vccn.nl
Programma voor ‘(meer) ervaren vakgenoten’
10.00 - 10.30
10.00 - 11.00
Ir. F.W. Saurwalt, Kropman, Utrecht
10.30 - 11.00
Normen
11.30 - 12.00
10.00 - 11.00
Koffie / thee
11.00 - 11.30
Ontwerp en Specificaties
11.30 - 12.30
Bouw en Installatie
Workshop 2:
Airborn Molecular Contamination (AMC)
Ing. P.A.M. van Casteren, Philips Semiconductors, N’megen
12.00 - 12.30
Workshop 1:
Reiniging
Ing. R.A.H.M. Geilleit, DHV, Eindhoven
11.00 - 11.30
€ 950,-
Nadere informatie is te verkrijgen bij het VCCN verenigingsbureau:
Programma voor ‘nieuwe vakgenoten’
Contamination Control als ‘rode draad’
€ 195,€ 25,-
Koffie / thee
Workshop 3:
Normen en regelgeving
11.30 - 12.30
Inloopsessie 1: bedrijven presentaties
12.30 - 14.00
Lunch
P.A. Tenge, Interflow Cleanroom Techniek, Wieringerwerf
12.30 - 14.00
Lunch
14.00 - 14.30
Cleanroomvalidatie
14.00 - 15.00
Workshop 4:
Follow-up Beheersplan OK’s
Dhr. E.M.M. den Hartog, PMV, Woerden
14.30 - 15.00
15.00 - 15.30
14.00 - 15.00
Inloopsessie 2: bedrijven presentaties
Mevr. F.P.J. Kooistra, Micronclean, Bolsward
15.00 - 15.30
Koffie / thee
Koffie / thee
15.30 - 16.30
Kleding en discipline
Workshop 5:
Technisch ontwerp cleanroom
15.30 - 16.00
Gedrag en onderhoud
Dhr. H.F. Otto, Clean Quest, Apeldoorn
15.30 - 16.30
Workshop 6:
Product Oriented Contamination Control
16.00 - 16.30
Discussie
vccn nieuwsbrief
13
14
vccn nieuwsbrief
VERENIGINGSNIEUWS
NIEUWE persoonlijke leden
CGC REGISTER
De volgende bedrijven zijn opgenomen in het CGC-register®
Mevr drs. ing. C.M. de Best
Dhr P.M. Boersema
Dhr ing. H.R. van Lijssel
Mevr drs. P. Segers
Dhr ing. J.M. de Windt
Syntiro PSI
Elbo Technics BV
Miniplants
Solvay Pharmaceuticals
Earth Matters Engineering
NIEUWE bedrijfsleden
Astron
Dhr N. Ebbendorf
Oude Hoogeveensedijk 4 - 7991 PD Dwingeloo
Tel. (052) 59 5 00 - www.astron.nl
Robbers Schoonmaakdiensten B.V.
Dhr G.M.C. van Gent
Perkinsbaan 4 - 3439 ND Nieuwegen
Tel. (030) 602 40 00 - www.robbers.nl
Isala Klinieken
De Isala klinieken is één van de grootste zorgorganisaties van Nederland met een topklinisch
ziekenhuis en hoogwaardige ouderenzorg in Zwolle.
Op de afdeling Klinische Farmacie werken 90 mensen
in een viertal units:
• inkoop
• laboratorium
• distributie& logistiek
• productie
Binnen de unit productie worden aseptische, steriele
en niet-steriele geneesmiddelen bereidt, zowel op voorraad als op maat voor de patiënt. Het CCKL-test geaccrediteerde klinisch chemisch laboratorium is een
drie locatie laboratorium waar 239 mensen (159 FTE’s)
werken. Het stamcellaboratorium dat op locatie
Sophia gevestigd is verzorgt op steriele wijze het invriezen en de opslag van materialen t.b.v. autologe
transplantaties bij patiënten met hematologische
maligniteiten.
Kijk voor meer informatie op: www.isala.nl
Schoonmaakbedrijf Aalbers
A.B.S. bv
Academisch Medisch Centrum
Aero-Dynamiek bv
Akzo-Nobel Engineering BV
Apoth. Twenteborg Klinische
Farmacie Ziekenh. groep Twente
Apotheek Wilihemina Ziekenhuis
Asito Medical Facilities
ASML
Astron
ATH
BAM Techniek Amsterdam
Basan Nederland BV
Bijl BV
BioTRADING benelux BV
Boltjes Plaatwerk Industrie BV
Brakel Hilversum BV
Burgers Ergon Installatietechniek
CAM Implants BV
CAM Implants BV
Cantorclin
Cantorclin Limburg b.v.
Catharina Ziekenhuis
Chubb Flame Control BV
Clestra Hauserman BV
De Collegiale Bereiding
Crucell Holland BV
Dalkia-DBU Industrietechniek B.V.
Dolmans
DSM Solutech
BVBA ECOLAB SPRL
Erasmus Medisch Centrum
Euroclean
Facilicom Bedrijfsdiensten
FBU - Schoonmaak Management
Feenstra
Fort Dodge Animal Health Holland
FOM-Inst. v. Plasmafysica Rijnhuizen
Gema Cleaning Nederland v.o.f.
Gom Bedrijfsdiensten
Gom Schoonhouden
GTI Utiliteit West BV
Heineken Ned Supply
Imtech Utiliteit Noord-West B.V.
Initial Hokatex
Interflow, BAM Techniek
Bemmel
Brummen
Amsterdam Z.O.
Nijkerk
Arnhem
Almelo
Assen
Hengelo (OV.)
Veldhoven
Dwingelo
Amsterdam
Amsterdam
Breda
Barneveld
Mijdrecht
Amersfoort
Hilversum
Eindhoven
Leiden
Schiedam
Westervoort
Geleen
Eindhoven
Bilthoven
Krimpen a/d IJssel
Losser
Leiden
IJsselstein
IJsselstein
Heerlen
Zellik (België)
Rotterdam
Amsterdam
Schiedam
Utrecht
Heerenveen
Weesp
Nieuwegein
H. I. Ambacht
Eindhoven
Den Haag
Rotterdam
Zoeterwoude
Den Haag
Voorburg
Wieringerwerf
ISS Cleaning Services
ISS Facility Services
ISS Nederland BV
KCS Cleanroom Systems BV
Kimberly - Clark
Kingsize Consultancy
Koopman’s Bedrijfsdienst
Kropman BV
Lamers Medical Products BV
Mallinckrodt Medical BV
Medica Europe BV
Micronclean BV
OctoPlus Pharmaceutical
Pack-O-Med
Pharma Bio Research Group BV
Philips MDS
RIVM
Robbers Schoonmaakdiensten B.V.
RvS Technologies BV
Sanquin Bloedbank
St. Sanquin Bloedvoorziening
Sanquin Plasma Producten
Ziekenhuisapotheek Scheldezoom
Siemens Building Technologies
SMB Aalbers
Smits van Burgst bv
Solvay Pharmaceuticals BV
SRON Utrecht
Stork industry Services Farma
Stork Industry Services BV Noordwest
BU Pharmaceutical Maintenance
Stork Industry Services BV Noordwest
BU Pharmaceutical Maintenance
Stork Worksphere Oost
Streeklaboratorium Groningen-Drenthe
Streeklaboratorium v/d Volksgezondheid
TNO-TPD
UMC St. Radboud
Universitair Medisch Centrum
Van Vonderen Cleanrooms b.v.
VLS Schoon
Wipak BV
WML
Wolter & Dros Groep
Ingenieursbureau Wolter & Dros B.V.
Ziekenhuisapotheek Scheldezoom
Zwanenberg Food Group
Groningen
Rotterdam
Utrecht
Oudenbosch
Breda
Oostrum
Ameide
Utrecht
Gendt
Petten
Oss
Bolsward
Leiden
Kampen
Zuidlaren
Heerlen
Bilthoven
Nieuwengein
Almere
Nijmegen
Leiden
Amsterdam
Goes
Geldrop
Bemmel
Zoetermeer
Weesp
Utrecht
Velsen Noord
Weesp
Velsen Noord
Enschede
Groningen
Groningen
Delft
Nijmegen
Utrecht
Bergeyk
Zwijndrecht
Sittard
Waalwijk
Amersfoort
Rotterdam
Goes
Aalsmeer
PRIJSWINNAARS
Ledenenquête boekenbonnen
K. Halmingh
E.G.A. Rauwerda
A.J. Wouters
uit Wildervank
uit Tilburg
uit Helvoirt
AGENDA
3 oktober 2005
27 oktober 2005
7 december 2005
2005
Cleanroom GedragsCursus
5e Nationale Cleanroomdag
Cleanroom GedragsCursus
Amersfoort
Bussum
Amersfoort
vccn nieuwsbrief
15
Geen vuiltje
aan de lucht.
Als specialist in schone lucht hebben we jarenlang ervaring
met het ontwikkelen en bouwen van Cleanrooms en operatiekamers. Daarbij beschikken we over een revolutionair systeem,
dat grote flexibiliteit biedt, vele gebruiksmogelijkheden kent,
bijzondere snelle bouw en lage exploitatiekosten garandeert.
Bovendien kunnen we de complete inrichting van uw
laboratoria verzorgen, bieden wij u een complete range van
geavanceerde laminar flow apparatuur en beschikken we
over een eigen Validatie- en meetdienst voor luchttechnische
metingen. Kortom: met Interflow is er geen vuiltje aan de
lucht. Neem contact op met onze adviseurs of kijk op
www.interflow.nl voor uitgebreide informatie.
Specialist in schone lucht
Interflow De Stek 15 · 1771 SP Wieringerwerf
Tel. (0227) 60 28 44 · Fax (0227) 60 31 65
[email protected] · www.interflow.nl
Interflow is een onderdeel van BAM Techniek bv